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                    次大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現均勻的霧狀放電，放電的電流電學特征為單脈沖，放電溫度為室溫。次大氣壓輝光放電可以處理各種高分子材料、生物材料、金屬材料、紡織品材料、異型材料。設備成本低、處理的時間短、可加入各種氣氛，氣氛含量高、功率密度大、處理效率高?？蓱糜诒砻婢酆?、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和的表面處理。電子和離子的能量可達10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。
                    主要應用于表面清洗、改善復合材料粘附性、細胞培養皿,組織培養皿的親水、心臟冠狀動脈支架、生物傳感器的表面處理。
            圖片關鍵詞
            次大氣壓低溫等離子清洗機,次大氣壓輝光放電處理機,次大氣壓低溫等離子表面改性設備
                                    HPD-2400生產型設備
                                   次大氣輝光放電處理機
            規格:
            1. 型號：HPD-2400；
            2. 電源：三相AC380V（±10%）
            3. 功率：1000VA；
            4. 電極尺寸：500mm×450mm；
            5. 設備尺寸：720(W)×1360(H)×765(D)mm
            6. 設備重量：180kg
            7. 腔體壓力：500~3000Pa
                        圖片關鍵詞
                                 次大氣輝光放電效果圖
            用途：
            1. 酶標板、細菌計數培養皿、細胞培養皿、組織培養皿的親水處理。經過等離子體處理后細菌培養皿表面由疏水變為親水,并獲得支持細胞黏附鋪展的能力.并適用于細胞培養。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證，處理過的樣品表面完全被水潤濕。
            2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理
            3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
            圖片關鍵詞
                                    HPD-280實驗型設備
                                   次大氣輝光放電處理機

            圖片關鍵詞
                                    次大氣輝光放電效果圖
            規格:
            1. 型號：HPD-280
            2. 電源：單相AC220V（±10%）
            3. 功率：500VA；
            4. 電極尺寸：160mm×160mm；
            5. 設備尺寸：620(W)×750(H)×450(D)mm
            6. 設備重量：100kg
            7. 腔體壓力：500~3000Pa
            圖片關鍵詞
                                    HPD-100C實驗型設備
                                  低氣壓氣輝光放電處理機
            規格:
            1. 型號：HPD-100C
            2. 電源：單相AC220V（±10%）
            3. 功率：500VA；
            4. 腔極尺寸：100mm×200mm；
            5. 設備尺寸：620(W)×750(H)×450(D)mm
            6. 設備重量：100kg
            7. 腔體壓力：20~200Pa

                    
            
    
            

            



            
    
            
            
            

            





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